Oxyde de gallium(I)
| Oxyde de gallium(I) | |
| Identification | |
|---|---|
| Nom systématique | oxyde de gallium(I) |
| Synonymes |
suboxyde de gallium |
| No CAS | |
| PubChem | 16702109 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Apparence | solide brun-noir[1] |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | Ga2O |
| Masse molaire[2] | 155,445 ± 0,002 g/mol Ga 89,71 %, O 10,29 %, |
| Propriétés physiques | |
| T° fusion | > 660 °C[1] (décomposition) |
| Solubilité | réagit avec l'eau[3] |
| Masse volumique | 4,77 g/cm3[4] |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
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L’oxyde de gallium(I) est un composé chimique de formule Ga2O. Il s'agit d'un solide brun-noir diamagnétique stable au contact de l'air sec. Il se sublime à 660 °C dans un flux de gaz inerte sous une pression de 1 bar, et à partir de 500 °C dans un vide poussé, où il se décompose en gallium et oxyde de gallium(III) Ga2O3 à partir de 700 °C[1].
L'oxyde de gallium(I) peut être obtenu en faisant réagir de l'oxyde de gallium(III) avec du gallium chauffé sous vide[1] :
Il peut également être obtenu en faisant réagir du gallium avec du dioxyde de carbone CO2 à basse pression et à 850 °C[5] :
Il se forme également lors de la fabrication de wafers d'arséniure de gallium par réaction du gallium avec le dioxyde de silicium des parois en verre de quartz[6],[7] :
Notes et références modifier
- (de) Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, 3e éd. révisée, vol. 1, Ferdinand Enke, Stuttgart, 1975, p. 857. (ISBN 3-432-02328-6)
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) Jane E. Macintyre, Dictionary of Inorganic Compounds, CRC Press, 1992, p. 3305. (ISBN 0-412-30120-2)
- (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 92e éd., CRC Press, 2011, p. 4.67. (ISBN 1-4398-5511-0)
- (en) N. N. Greenwood, « The Chemistry of Gallium », H. J. Emeléus et A. G. Sharpe, Advances in inorganic chemistry and radiochemistry, vol. 5, Academic Press, New York, 1963, p. 91-134, ici p. 94. (ISBN 0-08-057854-3)
- (en) Paul Siffert et Eberhard Krimmel, Silicon: Evolution and Future of a Technology, Springer, 2004, p. 439. (ISBN 3-540-40546-1)
- (en) L.-J. Chou, Nanoscale One-dimensional Electronic and Photonic Devices (NODEPD), The Electrochemical Society, 2007, p. 47. (ISBN 1-56677-574-4)
