Silicate d'hafnium(IV)
composé chimique
| Silicate d'hafnium(IV) | |
| Identification | |
|---|---|
| Nom UICPA | silicate d'hafnium(IV) |
| PubChem | 17979268 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | HfSiO4 |
| Masse molaire[1] | 270,57 ± 0,02 g/mol Hf 65,97 %, O 23,65 %, Si 10,38 %, |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
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Le silicate d'hafnium(IV) est un composé chimique de formule brute HfSiO4. Il s'agit formellement du sel d'hafnium et d'acide silicique.
Des couches minces de silicate d'hafnium(IV) et de silicate de zirconium(IV) obtenues par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le plus souvent aux organométalliques (MOCVD), peuvent être employées comme diélectriques high-κ à la place du dioxyde de silicium SiO2 dans l'industrie des semiconducteurs[2].
Notes et références modifier
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) I.Z. Mitrovic, O. Buiu, S. Hall, C. Bungey, T. Wagner, W. Davey et Y. Lu, « Electrical and structural properties of hafnium silicate thin films », Microelectronics Reliability, vol. 47, nos 4-5, , p. 645-648 (lire en ligne) DOI 10.1016/j.microrel.2007.01.065
