Fichier:Photolithography etching process.svg
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Fichier d’origine (Fichier SVG, nominalement de 512 × 2 560 pixels, taille : 8 kio)
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Description
| Description |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| Source | Travail personnel |
| Auteur | Cmglee |
| Autres versions |
|
.svg)
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| Date et heure | Vignette | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
|---|---|---|---|---|---|
| actuel | 17 avril 2022 à 10:27 | | 512 × 2 560 (8 kio) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
| 20 juin 2020 à 15:18 |  | 512 × 2 560 (5 kio) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| 20 juin 2020 à 15:16 |  | 512 × 2 560 (8 kio) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| 9 octobre 2011 à 18:52 |  | 512 × 2 560 (5 kio) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| 1 octobre 2011 à 00:03 |  | 512 × 2 560 (5 kio) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| 30 septembre 2011 à 00:46 |  | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 30 septembre 2011 à 00:39 |  | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 30 septembre 2011 à 00:37 |  | 512 × 2 926 (5 kio) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 30 septembre 2011 à 00:30 |  | 512 × 3 413 (5 kio) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
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