Fichier:Locos (microtechnology) process.svg
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Date et heure | Vignette | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
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actuel | 14 décembre 2009 à 21:02 | 512 × 796 (27 kio) | Cepheiden | some fixes | |
19 janvier 2008 à 18:53 | 625 × 1 000 (56 kio) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
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